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電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = ...

陳彥儒

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博客來

電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 =/ 陳彥儒撰
其他題名:	Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
其他題名:	Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting
作者:	陳彥儒
其他作者:	徐裕奎
出版者:	花蓮縣 :光電工程學系, : 2018,
面頁冊數:	51面 :圖,表 ;30公分
附註:	校內電子全文開放日期 2019/08/28
標題:	N型氧化亞銅 -
電子資源:	http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610525007.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)

電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
陳彥儒

電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 =Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting陳彥儒撰 - 花蓮縣 :光電工程學系, 2018 - 51面 :圖,表 ;30公分

校內電子全文開放日期 2019/08/28

碩士論文--國立東華大學光電工程學系

含參考書目Subjects--Topical Terms:

3323756
N型氧化亞銅

電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
LDR:01188nam a2200241 450 001 2140492
008 181205s2018 ch ak e m z000 0 chi d
020 $q (平裝)
040 $a NDHU $b chi $c NDHU $d NDHU $e ccr
041 0 # $a chi $b chi $b eng
066 $c $1
084 $a 336 $2 ncsclt
100 1 $a 陳彥儒 $e 撰 $3 2622958
245 1 0 $a 電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = $b Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting / $c 陳彥儒撰
246 3 1 $a Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting
260 # $a 花蓮縣 : $b 光電工程學系, $c 2018
300 $a 51面 : $b 圖,表 ; $c 30公分
500 $a 校內電子全文開放日期 2019/08/28
500 $a 校外電子全文開放日期 2019/08/28
500 $a 國圖全文開放日期 2019/08/28
500 $a 畢業學年度: 106
500 $a 指導教授: 徐裕奎
502 $a 碩士論文--國立東華大學光電工程學系
504 $a 含參考書目
650 0 0 $a N型氧化亞銅 $3 3323756
650 0 0 $a 熱處理 $2 csht $3 2363891
650 0 0 $a 產氫 $2 csht $3 2629339
650 0 0 $a 參雜 $3 3323757
650 0 0 $a 光電化學 $2 lcstt $3 3267437
650 0 0 $a cuprous oxide $3 3323758
650 0 0 $a anneal $3 3323759
650 0 0 $a doping $3 3323760
650 0 0 $a electrochemical $3 3323761
650 0 0 $a water splitting $3 3323762
700 1 # $a 徐裕奎 $e 指導 $3 3036326
700 1 # $a Hsu, Yu-Kuei. $e 指導 $3 3267436
856 4 0 $u http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610525007.id&searchmode=basic $z 電子全文(依作者授權而定)