東華大學圖書館 |

Language: English

Help

回圖書館首頁

手機版館藏查詢

Back to Search results for [ subject:"MoS2" ]

Switch To: Labeled | MARC Mode | ISBD

成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 = = The Effect...

趙芝

Linked to FindBook

Google Book

Amazon

博客來

成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 = = The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /

Record Type:	Language materials, printed : Monograph/item
Title/Author:	成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 =/ 趙芝撰
Reminder of title:	The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /
remainder title:	The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering
Author:	趙芝
other author:	余英松
Published:	[花蓮縣] :[國立東華大學材料科學與工程學系], : 2023,
Description:	[10], 91面 :圖,表 ;30公分
Notes:	校內電子全文開放日期 2024/01/17
Subject:	MoS2 -
Online resource:	http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0611022107.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)

成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 = = The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /
趙芝

成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 =The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering趙芝撰 - [花蓮縣] :[國立東華大學材料科學與工程學系], 2023 - [10], 91面 :圖,表 ;30公分

校內電子全文開放日期 2024/01/17

碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系

含參考書目Subjects--Topical Terms:

3322967
MoS2

成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 = = The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /
LDR:01119nam a2200241 4500 001 2310029
008 230610s2023 ch ak e m z000 0 chi d
020 $q (平裝)
040 $a NDHU $b chi $c NDHU $d NDHU $e ccr
041 0 # $a chi $b eng
066 $c $1
084 $a 440.3 $2 ncsclt
100 1 $a 趙芝 $e 撰 $3 3618477
245 1 0 $a 成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 = $b The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering / $c 趙芝撰
246 3 1 $a The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering
260 # $a [花蓮縣] : $b [國立東華大學材料科學與工程學系], $c 2023
300 $a [10], 91面 : $b 圖,表 ; $c 30公分
500 $a 校內電子全文開放日期 2024/01/17
500 $a 校外電子全文開放日期 2024/01/17
500 $a 國圖全文開放日期 2024/01/17
500 $a 畢業學年度: 111
500 $a 指導教授: 余英松
502 $a 碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系
504 $a 含參考書目
650 # 7 $a MoS2 $3 3322967
650 # 7 $a magnetron sputter $2 lcstt $3 3618481
650 # 7 $a nitrogen plasma $2 lcstt $3 3618482
650 # 7 $a UHV $2 lcstt $3 3618483
650 # 7 $a TMDs $2 lcstt $3 3618480
650 # 7 $a 二維材料 $2 lcstt $3 3267278
650 # 7 $a 二硫化鉬 $2 csht $3 2606142
650 # 7 $a 磁控濺鍍 $2 csht $3 2468089
650 # 7 $a 高真空退火 $2 lcstt $3 3618478
650 # 7 $a 氮電漿 $2 lcstt $3 3618479
700 1 # $a 余英松 $e 指導 $3 3215939
700 1 # $a Yu, Ing-Song $e 指導 $3 3380466
856 4 0 $u http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0611022107.id&searchmode=basic $z 電子全文(依作者授權而定)