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Chemical vapor deposition : = princi...

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Hitchman, Michael L.

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Chemical vapor deposition : = principles and applications /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	Chemical vapor deposition :/ edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen.
其他題名:	principles and applications /
其他作者:	Hitchman, Michael L.
出版者:	London ;Academic Press, : c1993.,
面頁冊數:	v, 677 p. :ill. ;24 cm.
標題:	Chemical vapor deposition. -
ISBN:	0123496705 :

Chemical vapor deposition : = principles and applications /
Chemical vapor deposition :principles and applications /edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen. - London ;Academic Press,c1993. - v, 677 p. :ill. ;24 cm.

Includes bibliographical references and index.

ISBN: 0123496705 :US350.00

LCCN: 93125773Subjects--Topical Terms:

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Chemical vapor deposition.

LC Class. No.: TS695 / .C54 1993

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館藏地: 出版年: 卷號:

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
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典藏地名稱

館藏流通類別

W0061264

六樓西文書區HC-Z(6F Western Language Books)

01.外借(書)_YB

一般圖書

TS695 C54 1993

一般使用(Normal)

在架

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