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以反應性脈衝磁控濺鍍法製作氮化鋁薄膜之研究 = = Studies o...
張惇欣

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  • 以反應性脈衝磁控濺鍍法製作氮化鋁薄膜之研究 = = Studies of Pulsed DC Reactive Magnetron Sputtering of AlN Thin Films /
  • Record Type: Language materials, printed : Monograph/item
    Title/Author: 以反應性脈衝磁控濺鍍法製作氮化鋁薄膜之研究 = / 張惇欣撰
    Reminder of title: Studies of Pulsed DC Reactive Magnetron Sputtering of AlN Thin Films /
    remainder title: Studies of Pulsed DC Reactive Magnetron Sputtering of AlN Thin Films
    Author: 張惇欣
    Published: [花蓮縣] : 國立東華大學材料科學與工程學系, : 民95[2006],
    Description: 7,81面 : 圖,表 ; 30公分
    Notes: 指導教授︰黃士龍
    Subject: 脈衝 -
    Online resource: http://134.208.10.124/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0726106-153009PDF全文
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GE0061378 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 440.3 1197 一般使用(Normal) On shelf 0
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