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以反應性脈衝磁控濺鍍法製作氮化鋁薄膜之研究 = = Studies o...
張惇欣

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  • 以反應性脈衝磁控濺鍍法製作氮化鋁薄膜之研究 = = Studies of Pulsed DC Reactive Magnetron Sputtering of AlN Thin Films /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 以反應性脈衝磁控濺鍍法製作氮化鋁薄膜之研究 = / 張惇欣撰
    其他題名: Studies of Pulsed DC Reactive Magnetron Sputtering of AlN Thin Films /
    其他題名: Studies of Pulsed DC Reactive Magnetron Sputtering of AlN Thin Films
    作者: 張惇欣
    出版者: [花蓮縣] : 國立東華大學材料科學與工程學系, : 民95[2006],
    面頁冊數: 7,81面 : 圖,表 ; 30公分
    附註: 指導教授︰黃士龍
    標題: 脈衝 -
    電子資源: http://134.208.10.124/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0726106-153009PDF全文
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
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GE0061378 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 440.3 1197 一般使用(Normal) 在架 0
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