80奈米金氧半場效電晶體中離子佈植最佳化之模擬及初步探討蒙地卡羅離子佈植...
許勝富

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  • 80奈米金氧半場效電晶體中離子佈植最佳化之模擬及初步探討蒙地卡羅離子佈植之模擬 = = Simulation of Ion Implantation Optimization for the 80-nm Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor and Preliminary Study of Monte Carlo Ion Implant Simulation /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 80奈米金氧半場效電晶體中離子佈植最佳化之模擬及初步探討蒙地卡羅離子佈植之模擬 = / 許勝富著
    其他題名: Simulation of Ion Implantation Optimization for the 80-nm Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor and Preliminary Study of Monte Carlo Ion Implant Simulation /
    其他題名: Simulation of Ion Implantation Optimization for the 80-nm Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor and Preliminary Study of Monte Carlo Ion Implant Simulation
    作者: 許勝富
    其他作者: 劉耿銘
    出版者: [花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學電機工程學系], : 民100[2011],
    面頁冊數: 67面 : 圖,表 ; 30公分
    附註: 指導教授:劉耿銘
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
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GE0120901 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 448.6 0873 2011 一般使用(Normal) 在架 0
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