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以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = = ZnO...

陸丞威

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博客來

以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = = ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = / 陸丞威撰
其他題名:	ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD /
其他題名:	ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD
作者:	陸丞威
其他作者:	陳怡嘉
出版者:	[花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學材料科學與工程學系], : 民99[2010],
面頁冊數:	13,64面 : 圖,表 ; 30公分
附註:	指導教授:陳怡嘉
標題:	緩衝層 -
電子資源:	http://hdl.handle.net/11296/r3t82xPDF全文

以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = = ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD /
陸丞威

以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD / ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD陸丞威撰 - [花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學材料科學與工程學系], 民99[2010] - 13,64面 : 圖,表 ; 30公分

指導教授:陳怡嘉

碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系,2010

參考書目:面61-64Subjects--Topical Terms:

2409560
緩衝層

以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = = ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD /
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650 # 7 $a 有機金屬化學氣相沉積 $2 csht $3 2927045
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