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以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = = ZnO...

陸丞威

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博客來

以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = = ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD /

Record Type:	Language materials, printed : Monograph/item
Title/Author:	以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = / 陸丞威撰
Reminder of title:	ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD /
remainder title:	ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD
Author:	陸丞威
other author:	陳怡嘉
Published:	[花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學材料科學與工程學系], : 民99[2010],
Description:	13,64面 : 圖,表 ; 30公分
Notes:	指導教授:陳怡嘉
Subject:	緩衝層 -
Online resource:	http://hdl.handle.net/11296/r3t82xPDF全文

以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = = ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD /
陸丞威

以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD / ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD陸丞威撰 - [花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學材料科學與工程學系], 民99[2010] - 13,64面 : 圖,表 ; 30公分

指導教授:陳怡嘉

碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系,2010

參考書目:面61-64Subjects--Topical Terms:

2409560
緩衝層

以金屬有機化學氣相沉積法使用氧化鋅緩衝層成長氧化鋅薄膜 = = ZnO film growth with ZnO buffer layer by MOCVD /
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