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磁控濺鍍法製備氧化矽、氧化鋯與矽酸鋯薄膜及其性質之研究 = = Sil...

簡吉鴻

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博客來

磁控濺鍍法製備氧化矽、氧化鋯與矽酸鋯薄膜及其性質之研究 = = Silica、zirconia and zirconium silicate thin films prepared by magnetron sputtering /

Record Type:	Language materials, printed : Monograph/item
Title/Author:	磁控濺鍍法製備氧化矽、氧化鋯與矽酸鋯薄膜及其性質之研究 = / 簡吉鴻撰
Reminder of title:	Silica、zirconia and zirconium silicate thin films prepared by magnetron sputtering /
remainder title:	Silica、zirconia and zirconium silicate thin films prepared by magnetron sputtering
Author:	簡吉鴻
other author:	郭東昊
Published:	民90[2001],
Description:	xv,105葉 : 圖,表格 ; 30公分
Notes:	指導教授: 郭東昊
Subject:	材料科學 -

磁控濺鍍法製備氧化矽、氧化鋯與矽酸鋯薄膜及其性質之研究 = = Silica、zirconia and zirconium silicate thin films prepared by magnetron sputtering /
簡吉鴻

磁控濺鍍法製備氧化矽、氧化鋯與矽酸鋯薄膜及其性質之研究 = Silica、zirconia and zirconium silicate thin films prepared by magnetron sputtering / Silica、zirconia and zirconium silicate thin films prepared by magnetron sputtering簡吉鴻撰 - 民90[2001] - xv,105葉 : 圖,表格 ; 30公分

指導教授: 郭東昊

碩士論文--國立東華大學材料科學與工程研究所,2001

參考書目: 面99-104Subjects--Topical Terms:

2075528
材料科學

磁控濺鍍法製備氧化矽、氧化鋯與矽酸鋯薄膜及其性質之研究 = = Silica、zirconia and zirconium silicate thin films prepared by magnetron sputtering /
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