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化學氣相沈積 Ti-Si-C-N 鍍膜之成長特性及其性質研究 = = ...

黃冠文

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博客來

化學氣相沈積 Ti-Si-C-N 鍍膜之成長特性及其性質研究 = = Growth characteristics and properties of Ti-Si-C-N coating by chemical vapor deposition /

Record Type:	Language materials, printed : Monograph/item
Title/Author:	化學氣相沈積 Ti-Si-C-N 鍍膜之成長特性及其性質研究 = / 黃冠文撰
Reminder of title:	Growth characteristics and properties of Ti-Si-C-N coating by chemical vapor deposition /
remainder title:	Growth characteristics and properties of Ti-Si-C-N coating by chemical vapor deposition
Author:	黃冠文
other author:	郭東昊
Published:	民88[1999],
Description:	xvi,127面 : 圖,表格 ; 30公分
Notes:	指導教授: 郭東昊
Subject:	材料科學 -

化學氣相沈積 Ti-Si-C-N 鍍膜之成長特性及其性質研究 = = Growth characteristics and properties of Ti-Si-C-N coating by chemical vapor deposition /
黃冠文

化學氣相沈積 Ti-Si-C-N 鍍膜之成長特性及其性質研究 = Growth characteristics and properties of Ti-Si-C-N coating by chemical vapor deposition / Growth characteristics and properties of Ti-Si-C-N coating by chemical vapor deposition黃冠文撰 - 民88[1999] - xvi,127面 : 圖,表格 ; 30公分

指導教授: 郭東昊

碩士論文--國立東華大學材料科學與工程研究所,1999

參考書目: 面121-27

贈閱Subjects--Topical Terms:

2075528
材料科學

化學氣相沈積 Ti-Si-C-N 鍍膜之成長特性及其性質研究 = = Growth characteristics and properties of Ti-Si-C-N coating by chemical vapor deposition /
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