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磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = = Magnetro...

賴忠信

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博客來

磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = = Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices /

Record Type:	Language materials, printed : Monograph/item
Title/Author:	磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = / 賴忠信撰
Reminder of title:	Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices /
remainder title:	Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices
Author:	賴忠信
Published:	[花蓮縣壽豐鄉 : 國立東華大學電子工程研究所], : 民97[2008],
Description:	13,81面 : 圖,表 ; 30公分
Notes:	指導教授︰郭東昊
Subject:	金氧半 -
Online resource:	http://etd.lib.ndhu.edu.tw/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0711108-163117PDF全文

磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = = Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices /
賴忠信

磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices / Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices賴忠信撰 - [花蓮縣壽豐鄉 : 國立東華大學電子工程研究所], 民97[2008] - 13,81面 : 圖,表 ; 30公分

指導教授︰郭東昊

碩士論文--國立東華大學電子工程研究所,2008

參考書目︰面79-81Subjects--Topical Terms:

2394393
金氧半

磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = = Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices /
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500 $a 指導教授︰郭東昊
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650 7 $a 射頻磁控濺鍍法 $2 csht $3 2528428
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