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以改良式紫外線基奈米壓印技術製做次波長抗反射結構 = = Fabric...

蘇彥瑜

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博客來

以改良式紫外線基奈米壓印技術製做次波長抗反射結構 = = Fabrication of Antireflective Subwavelength Microstructures by Using Modified UV-based Nanoimprint Technology /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	以改良式紫外線基奈米壓印技術製做次波長抗反射結構 = / 蘇彥瑜撰
其他題名:	Fabrication of Antireflective Subwavelength Microstructures by Using Modified UV-based Nanoimprint Technology /
其他題名:	Fabrication of Antireflective Subwavelength Microstructures by Using Modified UV-based Nanoimprint Technology
作者:	蘇彥瑜
出版者:	花蓮縣壽豐鄉 : 國立東華大學光電工程研究所, : 民97[2008],
面頁冊數:	32,85面 : 圖,表 ; 30公分
附註:	指導教授︰魏茂國
標題:	次波長 -
電子資源:	http://134.208.72.238/cgi-bin/cdrfb3/gsweb.cgi?ccd=x6kfkx&o=e2&dbid=I%2B3J%3F%3D-582_&dbpathf=/opt/cdrfb3/db/stdcdrf/&fuid=01&dbna=PDF全文

以改良式紫外線基奈米壓印技術製做次波長抗反射結構 = = Fabrication of Antireflective Subwavelength Microstructures by Using Modified UV-based Nanoimprint Technology /
蘇彥瑜

以改良式紫外線基奈米壓印技術製做次波長抗反射結構 = Fabrication of Antireflective Subwavelength Microstructures by Using Modified UV-based Nanoimprint Technology / Fabrication of Antireflective Subwavelength Microstructures by Using Modified UV-based Nanoimprint Technology蘇彥瑜撰 - 花蓮縣壽豐鄉 : 國立東華大學光電工程研究所, 民97[2008] - 32,85面 : 圖,表 ; 30公分

指導教授︰魏茂國

碩士論文--國立東華大學光電工程研究所,2008

參考書目︰面83-85Subjects--Topical Terms:

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次波長

以改良式紫外線基奈米壓印技術製做次波長抗反射結構 = = Fabrication of Antireflective Subwavelength Microstructures by Using Modified UV-based Nanoimprint Technology /
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246 1 1 $a Fabrication of Antireflective Subwavelength Microstructures by Using Modified UV-based Nanoimprint Technology
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650 7 $a 抗反射 $2 csht $3 2692578
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