奈米線穿隧場效電晶體之閘極正交疊/負交疊與源極濃度梯度之模擬 = = S...
鄭建平

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  • 奈米線穿隧場效電晶體之閘極正交疊/負交疊與源極濃度梯度之模擬 = = Simulation of gate overlap/underlap and source doping gradient of nanowire Tunnel Field-Effect Transistors /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 奈米線穿隧場效電晶體之閘極正交疊/負交疊與源極濃度梯度之模擬 =/ 鄭建平撰
    其他題名: Simulation of gate overlap/underlap and source doping gradient of nanowire Tunnel Field-Effect Transistors /
    其他題名: 奈米線穿隧場效電晶體之閘極正交疊負交疊與源極濃度梯度之模擬
    作者: 鄭建平
    其他作者: 劉耿銘
    出版者: [花蓮縣壽豐鄉] :[國立東華大學電機工程學系], : 2019,
    面頁冊數: [18],78面 :圖,表 ;30公分
    附註: 校內電子全文開放日期 2024/08/03
    標題: 源極濃度梯度 -
    電子資源: http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610423013.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
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GE0182820 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 448.6 8711.1 2019 一般使用(Normal) 在架 0
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