東華大學圖書館 |

Language: English

Help

回圖書館首頁

手機版館藏查詢

Back

Switch To: Labeled | MARC Mode | ISBD

氮化鎵薄膜成長於化學氣相沉積二硫化鉬之特性分析 = = Characte...

劉轟山

Linked to FindBook

Google Book

Amazon

博客來

氮化鎵薄膜成長於化學氣相沉積二硫化鉬之特性分析 = = Characterization of gallium nitride thin films grown on chemical-vapor-deposited molybdenum disulfide /

Record Type:	Language materials, printed : Monograph/item
Title/Author:	氮化鎵薄膜成長於化學氣相沉積二硫化鉬之特性分析 =/ 劉轟山撰
Reminder of title:	Characterization of gallium nitride thin films grown on chemical-vapor-deposited molybdenum disulfide /
remainder title:	Characterization of gallium nitride thin films grown on chemical-vapor-deposited molybdenum disulfide
Author:	劉轟山
other author:	余英松
Published:	[花蓮縣壽豐鄉] :[國立東華大學國立東華大學材料科學與工程學系], : 2019,
Description:	[13],98面 :圖,表 ;30公分
Notes:	校內電子全文開放日期 2020/08/07
Subject:	化學氣象沉積法 -
Online resource:	http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610622009.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)

氮化鎵薄膜成長於化學氣相沉積二硫化鉬之特性分析 = = Characterization of gallium nitride thin films grown on chemical-vapor-deposited molybdenum disulfide /
劉轟山

氮化鎵薄膜成長於化學氣相沉積二硫化鉬之特性分析 =Characterization of gallium nitride thin films grown on chemical-vapor-deposited molybdenum disulfide /Characterization of gallium nitride thin films grown on chemical-vapor-deposited molybdenum disulfide劉轟山撰 - [花蓮縣壽豐鄉] :[國立東華大學國立東華大學材料科學與工程學系], 2019 - [13],98面 :圖,表 ;30公分

校內電子全文開放日期 2020/08/07

碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系

含參考書目Subjects--Topical Terms:

3394067
化學氣象沉積法

氮化鎵薄膜成長於化學氣相沉積二硫化鉬之特性分析 = = Characterization of gallium nitride thin films grown on chemical-vapor-deposited molybdenum disulfide /
LDR:01141nam a2200241 a 4500 001 2182513
008 191129s2019 ch a e m z000 0 chi d
020 $q (平裝)
040 $a NDHU $b chi $c NDHU $d NDHU $e ccr
041 0 # $a chi $b chi $b eng
066 $c $1
084 $a 440.3 $2 ncsclt
100 1 $a 劉轟山 $e 撰 $3 3390907
245 1 0 $a 氮化鎵薄膜成長於化學氣相沉積二硫化鉬之特性分析 = $b Characterization of gallium nitride thin films grown on chemical-vapor-deposited molybdenum disulfide / $c 劉轟山撰
246 3 1 $a Characterization of gallium nitride thin films grown on chemical-vapor-deposited molybdenum disulfide
260 # $a [花蓮縣壽豐鄉] : $b [國立東華大學國立東華大學材料科學與工程學系], $c 2019
300 $a [13],98面 : $b 圖,表 ; $c 30公分
500 $a 校內電子全文開放日期 2020/08/07
500 $a 校外電子全文開放日期 2020/08/07
500 $a 國圖全文開放日期 2020/08/07
500 $a 畢業學年度: 107
500 $a 指導教授: 余英松
502 $a 碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系
504 $a 含參考書目
650 7 $a 化學氣象沉積法 $2 lcstt $3 3394067
650 7 $a 二硫化鉬 $2 csht $3 2606142
650 7 $a 分子束磊晶 $2 csht $3 2589511
650 7 $a 氮化鎵 $2 csht $3 2394894
650 7 $a chemical vapor deposition (CVD) $2 lcstt $3 3394068
650 7 $a MoS2 $3 3322967
650 7 $a GaN $3 3322965
650 7 $a plasma-assisted molecular beam epitaxy (PA-MBE) $2 lcstt $3 3394069
700 1 # $a 余英松 $e 指導 $3 3215939
700 1 # $a Yu,Ing-Song $e 指導 $3 3394066
856 4 0 $u http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610622009.id&searchmode=basic $z 電子全文(依作者授權而定)