以DEZn與N2O做為低壓有機金屬化學氣相沉積法前驅物成長氧化鋅薄膜之研...
李治緯

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  • 以DEZn與N2O做為低壓有機金屬化學氣相沉積法前驅物成長氧化鋅薄膜之研究 = = Study of ZnO film growth by LP-MOCVD using DEZn and N2O as precursors /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 以DEZn與N2O做為低壓有機金屬化學氣相沉積法前驅物成長氧化鋅薄膜之研究 = / 李治緯撰
    其他題名: Study of ZnO film growth by LP-MOCVD using DEZn and N2O as precursors /
    其他題名: Study of ZnO film growth by LP-MOCVD using DEZn and N2O as precursors
    作者: 李治緯
    其他作者: 陳怡嘉
    出版者: [花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學材料科學與工程學系], : 民102年[2013],
    面頁冊數: 10,75面 : 圖,表 ; 30公分
    附註: 畢業學年度:101
    電子資源: http://134.208.29.93/cgi-bin/cdrfb3/gsweb.cgi?o=dstdcdr&i=ssid=%22610022013%22.PDF全文
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
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GE0139567 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 440.3 4032 2013 一般使用(Normal) 在架 0
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