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以雙光束干涉微影術製備電漿子晶體 = = Fabrication of...
~
黃立丞
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博客來
以雙光束干涉微影術製備電漿子晶體 = = Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
以雙光束干涉微影術製備電漿子晶體 = / 黃立丞撰
其他題名:
Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography /
其他題名:
Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography
作者:
黃立丞
其他作者:
王智明
出版者:
[花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學光電工程學系], : 2012[民101],
面頁冊數:
8,41面 : 圖,表 ; 30公分
附註:
校內電子全文開放日期 2015.7.27
以雙光束干涉微影術製備電漿子晶體 = = Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography /
黃立丞
以雙光束干涉微影術製備電漿子晶體 =
Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography / Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography黃立丞撰 - 初版 - [花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學光電工程學系], 2012[民101] - 8,41面 : 圖,表 ; 30公分
校內電子全文開放日期 2015.7.27
碩士論文-- 國立東華大學光電工程學系
參考書目:面39-41
贈閱Subjects--Index Terms:
干涉微影
以雙光束干涉微影術製備電漿子晶體 = = Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography /
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指導教授:王智明
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碩士論文-- 國立東華大學光電工程學系
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參考書目:面39-41
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含附錄
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贈閱
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干涉微影
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館藏地:
全部
五樓論文區 (5F Theses & Dissertations)
出版年:
卷號:
館藏
1 筆 • 頁數 1 •
1
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典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
GE0128731
五樓論文區 (5F Theses & Dissertations)
03.不外借_N
本校碩士論文
T 336 4401.1 2012
一般使用(Normal)
在架
0
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1
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