以雙光束干涉微影術製備電漿子晶體 = = Fabrication of...
黃立丞

FindBook      Google Book      Amazon      博客來     
  • 以雙光束干涉微影術製備電漿子晶體 = = Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 以雙光束干涉微影術製備電漿子晶體 = / 黃立丞撰
    其他題名: Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography /
    其他題名: Fabrication of plasmonic crystal using two beam interference lithography
    作者: 黃立丞
    其他作者: 王智明
    出版者: [花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學光電工程學系], : 2012[民101],
    面頁冊數: 8,41面 : 圖,表 ; 30公分
    附註: 校內電子全文開放日期 2015.7.27
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
  • 1 筆 • 頁數 1 •
 
GE0128731 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 336 4401.1 2012 一般使用(Normal) 在架 0
  • 1 筆 • 頁數 1 •
評論
Export
取書館
 
 
變更密碼
登入