20奈米N型金氧半場效電晶體與多閘極 絕緣層上金氧半場效電晶體臨限電壓變...
李政逵

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  • 20奈米N型金氧半場效電晶體與多閘極 絕緣層上金氧半場效電晶體臨限電壓變 = = Simulation of the threshold voltage Variability of 20-nm Bulk MOSFET and Multiple-Gate SOI MOSFET /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 20奈米N型金氧半場效電晶體與多閘極 絕緣層上金氧半場效電晶體臨限電壓變 = / 李政逵撰
    其他題名: Simulation of the threshold voltage Variability of 20-nm Bulk MOSFET and Multiple-Gate SOI MOSFET /
    其他題名: Simulation of the threshold voltage Variability of 20-nm Bulk MOSFET and Multiple-Gate SOI MOSFET
    作者: 李政逵
    其他作者: 劉耿銘
    出版者: [花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學電機工程學系], : 2012[民101],
    面頁冊數: 4,58面 : 圖,表 ; 30公分
    附註: 指導教授:劉耿銘
    電子資源: http://134.208.29.93/cgi-bin/cdrfb3/gsweb.cgi?ccd=EeDpZK&o=e2&dbid=I%2B3%3D%3C19%2A%3B%25.&dbpathf=/opt/cdrfb3/db/stdcdrf/&fuid=01&dbna=
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
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GE0128218 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 448.6 4013 2012 一般使用(Normal) 在架 0
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