20奈米N型絕緣層上多閘極金氧半場效電晶體閘極漏電流之模擬 = = S...
黃新傑

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  • 20奈米N型絕緣層上多閘極金氧半場效電晶體閘極漏電流之模擬 = = Simulation of 20nm N-type SOI multiple-gate MOSFET gate leakage /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 20奈米N型絕緣層上多閘極金氧半場效電晶體閘極漏電流之模擬 = / 黃新傑撰
    其他題名: Simulation of 20nm N-type SOI multiple-gate MOSFET gate leakage /
    其他題名: Simulation of 20nm N-type SOI multiple-gate MOSFET gate leakage
    作者: 黃新傑
    其他作者: 劉耿銘
    出版者: [花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學電機工程學系], : 2012[民101],
    面頁冊數: 11,63面 : 圖,表 ; 30公分
    附註: 指導教授:劉耿銘
    電子資源: http://134.208.29.93/cgi-bin/cdrfb3/gsweb.cgi?ccd=xZ3ZHR&o=e2&dbid=I%2B3%3D%3C19%2A%3B%240&dbpathf=/opt/cdrfb3/db/stdcdrf/&fuid=01&dbna=
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
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GE0128202 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 448.6 4402.2 2012 一般使用(Normal) 在架 0
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