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蘇彥瑜
概要
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1 作品在 0 項出版品 0 種語言
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以改良式紫外線基奈米壓印技術製做次波長抗反射結構 = = Fabrication of Antireflective Subwavelength Microstructures by Using Modified UV-based Nanoimprint Technology /
by: 蘇彥瑜
(書目-語言資料,印刷品)
主題
奈米透鏡
紫外線成形
熱整形
抗反射
紫外線基奈米壓印技術
次波長
模造
處理中
...
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